Complexion Clearing Masque

COMPLEXION CLEARING MASQUE

Complexion Clearing Masque er en rensende leiremaske med 10 % svovel som bidrar til å redusere og forebygge urenheter og tilstopninger. Den balanserer overflødig talg, holder porene rene og roer ned irritert hud. Masken gir en klarere, jevnere og mer balansert hudtone uten å virke uttørrende.

Egenskaper:
• Motvirker kviser, tilstopninger og fet glans
• Reduserer overflødig talg og jevner hudens tekstur
• Bidrar til å roe ned irritert og rød hud
• Absorberer smuss og talg for å holde porene rene
• Opprettholder fuktighet og styrker hudens komfortnivå
• Gir en balansert og matt hudoverflate

Aktive ingredienser:
• Svovel (10 %) – virker talgregulerende og reduserer inflammasjon ved urenheter
• Glyserol – binder fuktighet og motvirker uttørking av huden
• Kaolin og bentonitt – naturlige leirer som absorberer talg og virker lett sammentrekkende

Finish/dekning:
• Etterlater huden matt, ren og oppfrisket
• Gir en jevn og avbalansert hudoverflate

Passer for:
• Kombinert og fet hud
• Hud med tette porer, blankhet og utbrudd
• Lokalt bruk på områder med urenheter, som panne, hake eller nese

Bruk:
1. Påfør et tynt, jevnt lag på ren og tørr hud én til to ganger i uken.
2. La masken virke i 10–15 minutter før du skyller av med lunkent vann.
3. Kan brukes som punktbehandling over natten på utsatte områder etter veiledning fra klinikk.

Kombinasjon og kompatibilitet:
• Passer i rutiner for kombinert og fet hud.
• Kan kombineres med milde renseprodukter, lette fuktighetskremer og solbeskyttelse.
• Unngå å bruke samtidig med sterke syrer eller retinoider for å minimere irritasjon.
• Kan brukes som en del av en ukentlig balanserende behandling.

Sikkerhet:
• Unngå kontakt med øyne og slimhinner; skyll grundig ved kontakt.
• Svovel og leire kan føre til midlertidig tørrhet ved hyppig bruk.
• Start gradvis og juster etter hudens toleranse.
• Reduser eller pause bruk ved vedvarende irritasjon, rødhet eller ubehag.
• Oppbevares kjølig og utilgjengelig for direkte sollys.